功能特點:
GX302系列無限遠光學系統(tǒng)工業(yè)金相顯微鏡,帶有同軸落射照明系統(tǒng),偏光裝置和內切換濾色片,大型移動載物臺適合電子行業(yè)大面積硅晶片,PCB和LCD,柔性電路和薄膜及材料金相檢驗等。帶有明暗場及DIC微分干涉系統(tǒng)的機型,適用于常規(guī)狀態(tài)難以觀察的和特殊顯微觀察研究。
工業(yè)金相顯微鏡是材料,地礦,機械,電子,科研院所和高等院校的常規(guī)裝備,并可以升級顯微攝影和圖像處理與分析系統(tǒng)。
規(guī)格參數(shù):
規(guī)格型號 |
GX302DIC明場 |
GX302BD.DIC明暗場 |
總放大倍率: |
50×、100×、200×、500×、800× |
50×、100×、200×、500×、800× |
物鏡: |
微分干涉物鏡5×、10×、20×,無限遠物鏡50×、80× |
明暗場微分干涉物鏡5×、10×、20×,明暗場物鏡50×、80× |
物鏡轉換器: |
內傾五孔滾珠內定位 |
廣角大目鏡: |
平場PL10×/22mm |
分劃目鏡: |
10×/22,格值0.1mm,視度補償 |
測微尺C1: |
格值0.01/1mm |
|
雙目鏡筒: |
鉸鏈式,傾角30°,瞳距55-75mm,屈光度±5D可調 |
影像輸出: |
三目同步光學輸出,標準接口,可100%通光攝影 |
機械載物臺: |
三層280×270mm,快慢速移動204×204mm帶玻璃平臺 |
調焦機構: |
同軸粗微動,升降30mm,微動格值0.7μm,調焦定位和松緊調節(jié) |
同軸落射照明: |
可變孔徑和視場光闌,帶濾色片,鹵素燈12V/50W |
偏光裝置: |
推拉式起/檢偏振器,起偏器可360°旋轉 |
微分干涉: |
相襯插板適用于微分干涉物鏡 |
濾色片: |
落射濾色片組:黃/綠/藍/磨砂 |
輸入功率: |
AC220V/50Hz/30VA |
外形尺寸: |
250×508×532mm |
放大倍率和視場
型號 |
微分干涉物鏡 /明暗場微分干涉物鏡 |
目鏡WF10× /22 |
放大倍率 |
數(shù)值孔徑 N.A |
工作距離 mm |
物視場 mm |
總放大率 |
GX302DIC
明場 |
LMPlan 5×DIC |
0.12 |
15.0 |
4.4 |
50× |
LMPlan 10×DIC |
0.30 |
10.5 |
2.2 |
100× |
LMPlan 20×DIC |
0.40 |
4.50 |
1.1 |
200× |
PLL 50× |
0.70 |
3.68 |
0.44 |
500× |
PLL 80× |
0.80 |
1.25 |
0.27 |
800× |
GX302BD.DIC
明暗場 |
LMPlan 5× BDDIC |
0.12 |
7.90 |
4.4 |
50× |
LMPlan 10× BDDIC |
0.30 |
6.03 |
2.2 |
100× |
LMPlan 20× BDDIC |
0.40 |
1.40 |
1.1 |
200× |
PLL 50× BD |
0.70 |
1.75 |
0.44 |
500× |
PLL 80× BD |
0.80 |
0.80 |
0.27 |
800× |
選配件
1、無限遠物鏡(40×、60×、100×),明暗場物鏡(40×、60×、100×)
2、目鏡:平場PL12.5×,寬視野WF20×
3、顯微攝影攝像,圖像處理/分析系統(tǒng)
4、金相制樣設備:拋光機,預磨機,鑲嵌機,切割機及輔料等