功能特點：
GX302系列無限遠光學系統工業金相顯微鏡，帶有同軸落射照明系統，偏光裝置和內切換濾色片，大型移動載物臺適合電子行業大面積硅晶片，PCB和LCD，柔性電路和薄膜及材料金相檢驗等。帶有明暗場及DIC微分干涉系統的機型,適用于常規狀態難以觀察的和特殊顯微觀察研究。
工業金相顯微鏡是材料，地礦，機械，電子，科研院所和高等院校的常規裝備，并可以升級顯微攝影和圖像處理與分析系統。
規格參數:
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規格型號 |
GX302DIC明場 |
GX302BD.DIC明暗場 |
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總放大倍率： |
50×、100×、200×、500×、800× |
50×、100×、200×、500×、800× |
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物鏡： |
微分干涉物鏡5×、10×、20×，無限遠物鏡50×、80× |
明暗場微分干涉物鏡5×、10×、20×，明暗場物鏡50×、80× |
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物鏡轉換器： |
內傾五孔滾珠內定位 |
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廣角大目鏡： |
平場PL10×/22mm |
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分劃目鏡： |
10×/22，格值0.1mm，視度補償 |
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測微尺C1： |
格值0.01/1mm |
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雙目鏡筒： |
鉸鏈式，傾角30°，瞳距55-75mm，屈光度±5D可調 |
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影像輸出： |
三目同步光學輸出,標準接口，可100%通光攝影 |
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機械載物臺： |
三層280×270mm,快慢速移動204×204mm帶玻璃平臺 |
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調焦機構： |
同軸粗微動，升降30mm，微動格值0.7μm，調焦定位和松緊調節 |
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同軸落射照明： |
可變孔徑和視場光闌，帶濾色片，鹵素燈12V/50W |
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偏光裝置： |
推拉式起/檢偏振器,起偏器可360°旋轉 |
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微分干涉： |
相襯插板適用于微分干涉物鏡 |
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濾色片： |
落射濾色片組：黃/綠/藍/磨砂 |
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輸入功率： |
AC220V/50Hz/30VA |
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外形尺寸： |
250×508×532mm |
放大倍率和視場
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型號 |
微分干涉物鏡 /明暗場微分干涉物鏡 |
目鏡WF10× /22 |
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放大倍率 |
數值孔徑 N.A |
工作距離 mm |
物視場 mm |
總放大率 |
GX302DIC
明場 |
LMPlan 5×DIC |
0.12 |
15.0 |
4.4 |
50× |
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LMPlan 10×DIC |
0.30 |
10.5 |
2.2 |
100× |
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LMPlan 20×DIC |
0.40 |
4.50 |
1.1 |
200× |
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PLL 50× |
0.70 |
3.68 |
0.44 |
500× |
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PLL 80× |
0.80 |
1.25 |
0.27 |
800× |
GX302BD.DIC
明暗場 |
LMPlan 5× BDDIC |
0.12 |
7.90 |
4.4 |
50× |
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LMPlan 10× BDDIC |
0.30 |
6.03 |
2.2 |
100× |
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LMPlan 20× BDDIC |
0.40 |
1.40 |
1.1 |
200× |
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PLL 50× BD |
0.70 |
1.75 |
0.44 |
500× |
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PLL 80× BD |
0.80 |
0.80 |
0.27 |
800× |
選配件
1、無限遠物鏡（40×、60×、100×），明暗場物鏡（40×、60×、100×）
2、目鏡：平場PL12.5×，寬視野WF20×
3、顯微攝影攝像，圖像處理/分析系統
4、金相制樣設備：拋光機，預磨機,鑲嵌機，切割機及輔料等
